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離子柱系列 IC-Na

1.介紹：
HPSW IC 離子柱利用樣品中干擾組分與前處理柱中的固定相之間的結合力使基體中的干擾組分保留在樣品前處理柱上，而被測物則不被保留，從而進行后續(xù)的分析測定，這種方法也可達到被測物富集和樣品基體去除的目的。

名稱 功能團 應用
IC-RP 二乙烯基苯 疏水性化合物的去除，以及含有親水基團的疏水性物質(zhì)，如芳香族化合物，pH耐受1-14
IC-Ag/H Ag+型磺酸鹽+磺酸 鹵素陰離子的去除，過量Ag+的去除
 
IC-H 礦酸 陽離子(重金屬)的去除，堿性溶液的調(diào)節(jié)
IC-Ba Ba2+型磺酸鹽 SO42-的去除
IC-Ag Ag+型磺酸鹽 鹵素陰離子的去除
IC-Na Na+型磺酸鹽 陽離子(重金屬)的去除
IC-C18 C18 疏水性化合物的去除，pH耐受2-8

2.訂購信息：

基質(zhì) 規(guī)格 貨號 規(guī)格描述
離子柱系列 1mL 06914-10 HPSW IC-Na 1mL; 50/pkg


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