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離子柱系列 IC-C18

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1.介紹:
HPSW IC 離子柱利用樣品中干擾組分與前處理柱中的固定相之間的結(jié)合力使基體中的干擾組分保留在樣品前處理柱上,而被測(cè)物則不被保留,從而進(jìn)行后續(xù)的分析測(cè)定,這種方法也可達(dá)到被測(cè)物富集和樣品基體去除的目的。

 

名稱 功能團(tuán) 應(yīng)用
IC-RP 二乙烯基苯 疏水性化合物的去除,以及含有親水基團(tuán)的疏水性物質(zhì),如芳香族化合物,pH耐受1-14
IC-Ag/H Ag+型磺酸鹽+磺酸 鹵素陰離子的去除,過(guò)量Ag+的去除
 
IC-H 礦酸 陽(yáng)離子(重金屬)的去除,堿性溶液的調(diào)節(jié)
IC-Ba Ba2+型磺酸鹽 SO42-的去除
IC-Ag Ag+型磺酸鹽 鹵素陰離子的去除
IC-Na Na+型磺酸鹽 陽(yáng)離子(重金屬)的去除
IC-C18 C18 疏水性化合物的去除,pH耐受2-8

2.訂購(gòu)信息:

基質(zhì)規(guī)格貨號(hào)規(guī)格描述
離子柱系列1mL06912-10HPSW IC-C18 1mL; 50/pkg


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